Small Volume Beam Lithography (dutch)

TECHNOLOGISCHE VOOR- EN NADELEN

In dit hoofdstuk worden de verschillende technologieën besproken. Deze worden verwerkt in de lithografen van het bedrijf, maar hebben allemaal voor en nadelen ten opzichtte van de huidige SVEBL techniek.

De punten waarop we SVEBL vergelijken met alternatieve technologieën zijn: Productietijd, Conventionele fabricage technieken, Spreiding van de elektronenstraal, 3D-structuren en In de praktijk. De alternatieven zijn: MEBL en EBID/IBID. In de volgende tabel staan de scores ten opzichtte van elkaar op deze attributen uitgewerkt.

Productietijd Fabricage Spreiding 3D Praktijk

SVEBL - - - -- ++

MEBL + - + -- -

EBID/IBID -- + - ++ --

Figuur 1

Het duidelijkste voordeel van SVEBL is het gebruik in de praktijk. De SVEBL is ten opzichtte van de alternatieven gemakkelijk te gebruiken in de praktijk. Omdat Micro-columns groter kunnen blijven en techniek steeds verbeterd wordt, is het simpeler om dit te verwerken in lithografen. Terwijl voor de EBID/IBID nog veel onderzoeken en ontwikkelingen nodig zijn tot deze gemakkelijk en op grote schaal te gebruiken is. Deze technologie zou op den duur wel het beste alternatief geven, omdat het gebruik maakt van 3D-structuren. Zo kan er op chips meer informatie geplaatst worden. Dat EBID/IBID geen gebruik maakt van lift-off fabricage technieken maakt het tot een goed alternatief. Helaas is deze technologie niet op alle punten uitstekend. Zoals te zien in de tabel is het qua productietijd erg slecht, MEBL scoort hoog hierop. MEBL maakt gebruikt van meerdere stralen, dit verhoogt het aantal elektronen dat de oppervlakte per seconde raakt en versnelt de throughput. De spreiding van elektronenstralen is belangrijk, maar maakt